1. 化學蝕刻分類:蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。
2.概念定義:蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。
通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻(photochemical etching),指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護摸去處,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
4.工藝流程:清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)---烘干---涂布---曝光--- 顯影--蝕刻--脫膜,--烘干--包裝
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